国产光刻机去哪儿了？ ASML：落后10多年

在当前的芯片制造过程中，光刻机实际上是最重要、最基础的半导体设备之一。最关键的是，目前全球能够生产光刻机的厂商只有四家，分别是荷兰ASML、日本尼康、日本佳能和中国上海微电子设备有限公司（SMEE），而这四家公司之间的差距非常大。尤其是用于制造7nm以下芯片的EUV光刻机，全球只有ASML一家生产。因此ASML的EUV是一种稀有商品。全世界需要制造先进芯片的制造商都得去找它购买。美国夹在中间，监管ASML，不允许其向中国出售EUV光刻机。它还对高端沉浸式数码相机施加了限制。所以对于我们来说，我们必须开发自己的光刻机。问题来了，目前国内照明到底在哪里？光刻机不见了？目前，国产光刻机实力最强的是上海微电子。公开发售的光刻机是SSA600。根据官方的说法，它可以满足90Nm、110Nm、280Nm关键和非关键前IC制造层的光刻工艺要求。可用于8英寸生产线或12英寸生产线。不过，也有消息称，中国还有其他光刻机。毕竟去年据说有氟化氩光刻机，套印精度小于等于8NM。它实际上可以说是Immersion DUV光刻机之前最接近机器光刻机的产品，可用于28nm工艺。然而，无论是SSA600还是氟化氩光刻机，在达到浸没式之前，无论多么先进，其发展都是有限的。尽管ASML的CEO一直s表示，如果中国光刻机销量受到抑制，那么中国可以研发出先进的光刻机，然后取代ASML，但对方也表示，中国目前的光刻机技术至少落后ASML 10年。因为ASML在10多年前就开发了Immersion DUV，而我们还没有掌握Immersion DUV。差距不是只有10年多吗？有人说，目前美国打压我们芯片产业的核心其实是光刻机。如果我们拥有自己的先进光刻机，特别是EUV光刻机，那么对我们芯片的压制就不再有效。然而很多人并不知道这台EUV光刻机有多难。 5、8年可能都开发不出来。返回搜狐查看更多